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Development progress of Gigaphoton’s LPP EUV light source for inspection systems

  • Published:2024-04-10 Issue: Volume:PM283 Page:62
  • ISSN:
  • Container-title:Optical and EUV Nanolithography XXXVII
  • language:
  • Short-container-title:

Author:

Iwamoto Fumio,Ueno Yoshifumi,Nagai Shinji,Miyao Kenichi,Hayashi Hideyuki,Ishii Takuya,Abe Tamotsu,Nakarai Hiroaki,Saito Takashi

Publisher

SPIE

Reference13 articles.

1. EUV lithography;Bakshi,2018

2. 0.33 NA EUV systems for high volume manufacturing;Smeets,2023

3. First generation laser-produced plasma source system for HVM EUV lithography;Mizoguchi,2010

4. Laser produced EUV light source development for HVM;Endo,2007

5. 100 W 1st Generation Laser-Produced Plasma light source system for HVM EUV lithography;Mizoguchi,2011
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