Influence of silicon oxide on the performance of TiN bottom electrode in phase change memory

Author:

Gao Dan1,Liu Bo1,Xu Zhen1,Wang Heng1,Xia Yangyang1,Wang Lei2,Zhu Nanfei2,Li Ying2,Zhan Yipeng2,Song Zhitang1,Feng Songlin1

Affiliation:

1. Shanghai Institute of Microsystem and Information Technology (China)

2. Semiconductor Manufacturing International Corp. (China)

Publisher

SPIE

Reference15 articles.

1. Nonvolatile high-density high-performance phase-change memory;Wicker,1999

2. Phase change memory;Wong,2010

3. Current status of the phase change memory and its future

4. A 45nm generation phase change memory technology;Servalli,2009

5. A novel cell technology using N-doped GeSbTe films for phase change RAM;Horii,2003

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