Application of the three-state lithography model for grayscale lithography
Author:
Publisher
SPIE
Reference8 articles.
1. Inside PROLITH: Comprehensive Guide to Optical Lithography Simulation;Mack,1997
2. Modeling projection printing of positive photoresists
3. Three-state lithography model: an enhanced mathematical approach to predict resist characteristics in grayscale lithography processes
4. Reciprocity failure in novolak/diazoquinone photoresist with 364-nm exposure
5. Fundamental principles of optical lithography: The science of microfabrication;Mack,2012
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