A method of image-based aberration metrology for EUVL tools

Author:

Levinson Zac,Raghunathan Sudharshanan,Verduijn Erik,Wood Obert,Mangat Pawitter,Goldberg Kenneth,Benk Markus,Wojdyla Antoine,Philipsen Vicky,Hendrickx Eric,Smith Bruce W.

Publisher

SPIE

Reference28 articles.

1. Extending SMO into the lens pupil domain;Kempsell Sears,2011

2. Pupil wavefront manipulation for optical nanolithog-raphy;Kempsell Sears,2012

3. Impact of pupil plane filtering on mask roughness transfer

4. EUV Lithography

5. Description des procédés employes pour reconnaître la configuration des surfaces optiques;Foucault,1858

Cited by 1 articles. 订阅此论文施引文献 订阅此论文施引文献,注册后可以免费订阅5篇论文的施引文献,订阅后可以查看论文全部施引文献

1. Image-based pupil plane characterization via a space-domain basis;Journal of Micro/Nanolithography, MEMS, and MOEMS;2017-06-19

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