XPS-XRF hybrid metrology enabling FDSOI process
Author:
Affiliation:
1. GLOBALFOUNDRIES, Inc. (United States)
2. ReVera Corp. (United States)
Publisher
SPIE
Reference4 articles.
1. Holistic metrology approach: hybrid metrology utilizing scatterometry, critical dimension-atomic force microscope and critical dimension-scanning electron microscope
2. Silicon Germanium (SiGe) composition and thickness determination via simultaneous small spot XPS and XRF measurements;L’Herron,2014
3. Metal Gate Metrology Enabled by XPS Measurements with Data Feed Forward;Subramanian,2014
4. Hybridization of XRF/XPS and Scatterometry for Cu CMP process control;L’Herron,2015
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