First performance results of the ASML alpha demo tool
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SPIE
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1. Exposure Tool Development Toward Advanced EUV Lithography: A Journey of 40 Years Driving Moore’s Law;IEEE Electron Devices Magazine;2024-03
2. 超快极紫外光源产生及其在半导体检测中的应用(特邀);Acta Optica Sinica;2024
3. Highly reflective Mo/Be/Si multilayer mirrors with zero stress values for 13.5 nm wavelength;Thin Solid Films;2023-10
4. Imaging Extreme Ultraviolet Radiation Using Nanodiamonds with Nitrogen-Vacancy Centers;Nano Letters;2023-09-14
5. Considerations in the design of photoacid generators;Advances in Patterning Materials and Processes XL;2023-05-01
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