Ultralow-energy imaging for metrology
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SPIE
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1. 193-nm resist: ultralow voltage CD-SEM performance for sub-130-nm contact hole process;SPIE Proceedings;2003-05-27
2. High-resolution energy-dispersive x-ray spectroscopic analysis of ultrathin ion diffusion barriers using microcalorimetry;Journal of Applied Physics;2002-02
3. Application of the low-loss scanning electron microscope image to integrated circuit technology. Part 1- applications to accurate dimension measurements;Scanning;2001-09
4. High-resolution EDS analysis of ultra-thin TaSiN diffusion barriers for Cu metallization using microcalorimetry;Proceedings of the IEEE 2001 International Interconnect Technology Conference (Cat. No.01EX461);2001
5. Automated process control monitor for 0.18-um technology and beyond;SPIE Proceedings;2000-06-02
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