Enhancing EUV mask blanks usability through smart shift and blank-design pairing optimization
Author:
Affiliation:
1. Mentor Graphics India (India)
2. Mentor Graphics Corp. (United States)
Publisher
SPIE
Reference4 articles.
1. EUV mask-blank defect avoidance solutions assessment;Elayat,2012
2. Using pattern shift to avoid blank defects during EUVL mask fabrication
3. Automatic classification of blank substrate defects;Boettiger,2014
4. Viability of pattern shift for defect-free extreme ultraviolet lithography photomasks
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