Analysis of the pinhole array illumination source for high precision wavefront error metrology

Author:

Lu Zengxiong,Qi Yuejing,Meng Qingbin,Su Jiani,Liu Guangyi

Publisher

SPIE

Reference13 articles.

1. Full optical column characterization of DUV lithographic projection tools;Kerkhof,2004

2. New paradigm in Lens metrology for lithographic scanner: evaluation and exploration;Kafai,2004

3. Portable phase measuring interferometer using Shack-Hartmann method;Fujii,2003

4. Integrated projecting optics tester for inspection of immersion ArF scanner;Fujii,2006

5. A new on-machine measurement system to measure wavefront aberrations of projection optics with hyper-NA;Ohsaki,2006

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