EUV mask challenges and requirements for ultimate single exposure interconnects

Author:

Progler Chris,Green Michael,Bonam Ravi K.,Kamberian Henry,Ramadan Mohamed,Dunn Derren,Ham Young,Choi Yohan,Meli Luciana,Felix Nelson M.,Corliss Daniel,Kasprowicz Bryan

Publisher

SPIE

Reference9 articles.

1. Reducing roughness in extreme ultraviolet lithography

2. Comprehensive analysis of line-edge and line-width roughness for EUV lithography;Bonam,2017

3. Wafer hot spot identification through advanced photomask characterization techniques;Choi,2016

4. Shot noise effect analysis in E-beam and EUV lithography;Lee,2010

5. Mask manufacturing of advanced technology designs using multi-beam lithography (Part 1);Green,2016

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