Thermomechanical distortions of advanced optical reticles during exposure
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Publisher
SPIE
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2. Multilayer reticles: advantages and challenges for 28nm chip making;27th European Mask and Lithography Conference;2011-02-02
3. Modeling of mask thermal distortion and its dependency on pattern density;SPIE Proceedings;2005-06-28
4. Mask Materials;Handbook of Photomask Manufacturing Technology;2005-04-07
5. Bibliography (1994–2004) of other topics;Modelling and Simulation in Materials Science and Engineering;2004-12-08
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