Manufacturability study of masks created by inverse lithography technology (ILT)

Author:

Martin Patrick M.,Progler C. J.,Xiao G.,Gray R.,Pang L.,Liu Y.

Publisher

SPIE

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1. Advances in Inverse Lithography;ACS Photonics;2022-09-23

2. 先进计算光刻;Laser & Optoelectronics Progress;2022

3. Inverse lithography technology: 30 years from concept to practical, full-chip reality;Journal of Micro/Nanopatterning, Materials, and Metrology;2021-08-31

4. Nonlinear compressive inverse lithography aided by low-rank regularization;Optics Express;2019-10-02

5. Model-driven convolution neural network for inverse lithography;Optics Express;2018-11-28

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