Ion sources for ion implantation and ion beam modification of materials (invited)
Author:
Publisher
AIP Publishing
Subject
Instrumentation
Link
http://aip.scitation.org/doi/pdf/10.1063/1.1144983
Reference21 articles.
1. A new ion source for electromagnetic isotope separators
2. Freeman ion source: An overview (invited)
3. The technology and chemistry of heavy ion sources
4. The evolution of ion sources for implanters (invited)
5. Microwave ion source for high‐current implanter
Cited by 3 articles. 订阅此论文施引文献 订阅此论文施引文献，注册后可以免费订阅5篇论文的施引文献，订阅后可以查看论文全部施引文献
1. Enhanced beam currents of P2+, P3+, and P4+ for use in semiconductor ion implanters;Review of Scientific Instruments;2005-08
2. Physics and Technology of Ion and Electron Sources;digital Encyclopedia of Applied Physics;2003-04-15
3. Microwave ion sources for material processing (invited);Review of Scientific Instruments;1998-02
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