Etching characteristics of thin films of tungsten, amorphous silicon carbide, and SAL‐603 resist submitted to a surface‐wave driven SF6magnetoplasma near electron cyclotron resonance conditions

Author:

Bounasri F.,Moisan M.,St‐Onge L.,Margot J.,Chaker M.,Pelletier J.,El Khakani M. A.,Gat E.

Publisher

AIP Publishing

Subject

General Physics and Astronomy

Cited by 21 articles. 订阅此论文施引文献 订阅此论文施引文献,注册后可以免费订阅5篇论文的施引文献,订阅后可以查看论文全部施引文献

1. Travelling-wave-sustained discharges;Physics Reports;2007-05

2. Surface Waves at a Dusty Plasma-Metal Interface;Physica Scripta;2004-01-01

3. Surface Wave Control under Plasma–Metal Processing;Physica Scripta;2004-01-01

4. Stability of surface waves at magnetized plasma– metal interface;Contributions to Plasma Physics;2003-12

5. Gas discharge plasmas and their applications;Spectrochimica Acta Part B: Atomic Spectroscopy;2002-04

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