Skin Effect in Anisotropic Plasmas and Resonance Excitation of Electron‐Cyclotron Waves. I. Theory
Author:
Publisher
AIP Publishing
Subject
General Physics and Astronomy
Link
http://aip.scitation.org/doi/pdf/10.1063/1.1708577
Reference28 articles.
1. BESPRECHUNGEN
2. Eine Ionenquelle mittels Hochfrequenzentladung
3. Über den Einfluß eines statischen Magnetfeldes auf die elektrodenlose Hochfrequenz-Gasentladung in Wasserstoff
4. Uber das Auftreten ungeordneter Elektronenschwingungen (Rauschen) in einer elektrodenlosen Hochfrequenzentladung unter dem Einfluß eines statischen Magnetfeldes
5. �ber eine Resonanzerscheinung in elektrodenlosen Hochfrequenzgasentladungen mit �berlagertem Magnetfeld
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1. Electron beam-induced etching of SiO2, Si3N4, and poly-Si assisted by CF4/O2 remote plasma;Journal of Vacuum Science & Technology A;2023-01
2. SiO2 etching and surface evolution using combined exposure to CF4/O2 remote plasma and electron beam;Journal of Vacuum Science & Technology A;2022-12
3. ECWR plasma enhanced chemical vapour deposition of microcrystalline silicon thin films;Journal of Physics: Conference Series;2014-11-26
4. Simulation of cylindrical electron cyclotron wave resonance argon discharges;Journal of Physics D: Applied Physics;2011-04-07
5. Ion energy distribution of an inductively coupled radiofrequency discharge in argon and oxygen;Vacuum;2008-11
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