Effect of water vapor on a CH4‐H2discharge plasma

Author:

Lockwood R. B.,Miers R. E.,Anderson L. W.,Lawler J. E.,Lin Chun C.

Publisher

AIP Publishing

Subject

Physics and Astronomy (miscellaneous)

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1. Negative Ion Plasmas;Encyclopedia of Plasma Technology;2016-12-12

2. Water splitting in low-temperature ac plasmas at atmospheric pressure;Research on Chemical Intermediates;2000-01

3. Emission Spectroscopic Studies of Plasma-Induced NO Decomposition and Water Splitting;The Journal of Physical Chemistry A;1999-07-16

4. CH5 precursor mechanism for diamond growth;Physica Status Solidi (a);1994-02-16

5. The chemical basis of the CHO phase diagram in diamond plasma depositions;Diamond and Related Materials;1994-01

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