1. V. V. Andreev, D. V. Chuprov, V. I. Ilgisonis, A. A. Novitskii, and A. M. Umnov, Phys. Plasmas 24, 093518 (2017).
2. A. A. Balmashnov, A. V. Kalashnikov, V. V. Kalashnikov, S. P. Stepina, and A. M. Umnov, Plasma Phys. Rep. 44, 626 (2018).
3. D. Kahnfeld, R. Heidemann, J. Duras, P. Matthias, G. Bandelow, K. Luskow, S. Kemnitz, K. Matyash, and R. Schneider, Plasma Sources Sci. Technol. 27, 124002 (2018).
4. Y. Yang, X. Zhou, J. X. Liu, and A. Anders, Appl. Phys. Lett. 108, 034101 (2016).
5. C. V. Young, A. L. Fabris, and M. A. Cappelli, Appl. Phys. Lett. 106, 044102 (2015).