1. F. E. Wiria, B. Y. Tay, P. N. Lim, and E. Ghassemieh, Singapore Inst. Manufact. Technol. J. 11, 6 (2010).
2. N. Velisavljevic and Y. K. Vohra, Appl. Phys. Lett. 82, 4271 (2003).
3. M. Markovic, B. O. Fowler, and M. S. Tung, J. Res. Natl. Inst. Standards Technol. 109, 553 (2004).
4. C. Li, J. Liang, J. Niu, S. Liu, G. Li, J. Bai, A. Zhang, and R. Ding, J. Electron Microsc. 60, 301 (2011).
5. S. N. Danil’chenko, Vesn. Sum. Univ., Ser. Fiz., Mat., Mekh., No. 2, 33 (2007).