Dimensionelle Metrologie mittels Rastersondenmikroskopie (Dimensional Metrology based on Scanning Probe Microscopy)

Abstract

In jüngster Zeit erleben Nanotechnologien zur Herstellung von Schichten und anderen Strukturen im Nanometerbereich, d.h. mit Abmessungen von 0,1 nm bis 100 nm, einen enormen Aufschwung. Um die Aufgaben der Qualitätssicherung dieser Nanotechnologien zu lösen, ist es notwendig, Messverfahren zur Bestimmung der geometrischen Strukturen mit Unsicherheiten im Subnanometerbereich zu entwickeln. Um eine quantitative Rastersondenmikroskopie mit Rückführbarkeit auf nationale Normale zu realisieren, ist die Kalibrierung der SPMs eine wesentliche Aufgabe. Deshalb konzentriert sich der vorliegende Beitrag auf diesen Aspekt der quantitativen Rastersondenmikroskopie. Entwicklungen von Mess- und Kalibrierverfahren für Rasterkraft- und Rastertunnelmikroskope sowie die Anwendung von Röntgeninterferometrie und Rasternahfeldmikroskopie werden beschrieben. Darüber hinaus wird über die Entwicklung von Maßverkörperungen für die Kalibrierung von SPMs sowie über die Ergebnisse von Vergleichsmessungen im Bereich der Nanometrologie berichtet.