Abstract
Neueste Mikroprozessoren verwenden Strukturbreiten von 0,13 μm. Hieraus leiten sich für die einzelnen optischen Elemente der zur Herstellung eingesetzten Lithografie-Objektive Toleranzanforderungen im Nanometerbereich ab. Die Sematech Roadmap fordert für 2006 aber schon Strukturbreiten von 0,06 μm. Picometer-Toleranzforderungen sind Realität.
Subject
Electrical and Electronic Engineering,Instrumentation
Cited by
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