Quantitative parameters for the examination of InGaN QW multilayers by low-loss EELS

Author:

Eljarrat Alberto12345ORCID,López-Conesa Lluís12345,Magén César678910,García-Lepetit Noemí1112131415,Gačević Žarko1112131415,Calleja Enrique1112131415,Peiró Francesca12345,Estradé Sònia12345

Affiliation:

1. LENS-MIND-IN2UB

2. Laboratory of Electron NanoScopies

3. Departament d'Electrónica

4. Universitat de Barcelona

5. Barcelona

6. LMA-INA Laboratorio de Microscopías Avanzadas

7. Instituto de Nanociencia de Aragón – ARAID

8. Departamento de Física de la Materia Condensada

9. Universidad de Zaragoza

10. 50018 Zaragoza

11. ISOM

12. Instituto de Sistemas Optoelectrónicos y Microtecnología

13. Universidad Politécnica de Madrid

14. Madrid

15. Spain

Abstract

We present a detailed examination of a multiple InxGa1−xN quantum well (QW) structure for optoelectronic applications.

Funder

Ministerio de Economía y Competitividad

Publisher

Royal Society of Chemistry (RSC)

Subject

Physical and Theoretical Chemistry,General Physics and Astronomy

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