Revealing the true impact of interstitial and substitutional nitrogen doping in TiO2 on photoelectrochemical applications-Reference-Cited by-同舟云学术

Revealing the true impact of interstitial and substitutional nitrogen doping in TiO2 on photoelectrochemical applications

Published:2021 Issue:20 Volume:9 Page:12214-12224
ISSN:2050-7488
Container-title:Journal of Materials Chemistry A
language:en
Short-container-title:J. Mater. Chem. A

Author:

Khan Sherdil¹²³⁴⁵^ORCID,Lemes Ruwer Thais⁶⁷⁸⁹⁵,Khan Niqab¹²³⁴⁵,Köche Ariadne¹⁰²³⁴⁵^ORCID,Lodge Rhys W.¹¹¹²¹³¹⁴,Coelho-Júnior Horácio¹⁵⁵^ORCID,Sommer Rubem L.¹⁵⁵,Leite Santos Marcos J.¹⁰²³⁴⁵^ORCID,Malfatti Célia F.⁶⁷⁸⁹⁵,Bergmann Carlos P.⁶⁷⁸⁹⁵,Fernandes Jesum Alves¹¹¹²¹³¹⁴^ORCID

Affiliation:

1. Programa de Pós-Graduação em Física (PPGFIS)

2. Programa de Pós-Graduação em Materiais (PPGCIMAT)

3. Federal University of Rio Grande do Sul (UFRGS)

4. Porto Alegre

5. Brazil

6. Programa de Pós-Graduação em Engenharia de Minas

7. Metalúrgica e de Materiais (PPGE3M)

8. Universidade Federal do Rio Grande do Sul

9. 91501-970 Porto Alegre

10. Programa de Pós-Graduação em Química (PPGQ)

11. School of Chemistry

12. University of Nottingham

13. Nottingham NG7 2RD

14. UK

15. Centro Brasileiro de Pesquisas Físicas (CBPF)

Abstract

A holistic approach to fully characterize the physical–chemical properties of N doped TiO₂ and evaluate its true impact on photoelectrochemical applications.

Funder

Conselho Nacional de Desenvolvimento Científico e Tecnológico

Engineering and Physical Sciences Research Council

Coordenação de Aperfeiçoamento de Pessoal de Nível Superior

Fundação de Amparo à Pesquisa do Estado do Rio Grande do Sul

Fundação Carlos Chagas Filho de Amparo à Pesquisa do Estado do Rio de Janeiro

Publisher

Royal Society of Chemistry (RSC)

Subject

General Materials Science,Renewable Energy, Sustainability and the Environment,General Chemistry

Link

http://pubs.rsc.org/en/content/articlepdf/2021/TA/D0TA11494D