SON68 glass alteration under Si-rich solutions at low temperature (35–90 °C): kinetics, secondary phases and isotopic exchange studies

Author:

Bouakkaz Rachid123,Abdelouas Abdesselam123,El Mendili Yassine123,Grambow Bernd123,Gin Stéphane453

Affiliation:

1. SUBATECH – Ecole des Mines de Nantes-CNRS/IN2P3-Université de Nantes

2. 44307 Nantes

3. France

4. CEA Marcoule DTCD SECM LCLT

5. 30207 Bagnols-Sur-Cèze

Abstract

Pristine and 29Si-doped SON68 glass were leached in dynamic mode in Si-rich COx water at 42 ppm, pH 8, (35–90 °C) and S/V (900–1800 m−1). Diffusion and surface reaction process governed the glass alteration. The residual rate at 90 °C to 653 days is about 10−3 g m−2 d−1.

Publisher

Royal Society of Chemistry (RSC)

Subject

General Chemical Engineering,General Chemistry

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