Ultrafast control of the LnF+/LnO+ ratio from Ln(hfac)3
Author:
Affiliation:
1. Department of Chemistry, Princeton University, Princeton, New Jersey 08544, USA
Abstract
Funder
U.S. Department of Energy
Publisher
Royal Society of Chemistry (RSC)
Link
http://pubs.rsc.org/en/content/articlepdf/2024/CP/D4CP00337C
Reference27 articles.
1. M.Houssa , High-K gate dielectrics , Institute of Physics , 2004
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