Improvement of the photocatalytic degradation property of atomic layer deposited ZnO thin films: the interplay between film properties and functional performances

Author:

Rogé V.12345,Bahlawane N.123,Lamblin G.123,Fechete I.45678,Garin F.45678,Dinia A.910118,Lenoble D.123

Affiliation:

1. Luxembourg Institute of Science and Technology (LIST)

2. L-4362 Esch/Alzette

3. Luxembourg

4. Institut de Chimie et Procédés pour l'Energie

5. l'Environnement et la Santé (ICPEES)

6. UMR 7515

7. 67087 Strasbourg cedex 2

8. France

9. Institut de Physique et Chimie des Matériaux de Strasbourg (IPCMS)

10. UMR 7504

11. 67034 Strasbourg cedex 2

Abstract

In this work, we have evidenced the impact of stoichiometry on the photocatalytic properties of ZnO nanofilms grown by atomic layer deposition (ALD).

Publisher

Royal Society of Chemistry (RSC)

Subject

General Materials Science,Renewable Energy, Sustainability and the Environment,General Chemistry

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