Two-photon lithography in visible and NIR ranges using multibranched-based sensitizers for efficient acid generation

Author:

Jin Ming123,Xie Jianchao123,Malval Jean-Pierre4567,Spangenberg Arnaud4567,Soppera Olivier4567,Versace Davy-Louis891011,Leclerc Tiffanie4567,Pan Haiyan123,Wan Decheng123,Pu Hongting123,Baldeck Patrice12131415,Poizat Olivier16171819,Knopf Stephan4567

Affiliation:

1. School of Materials Science and Engineering

2. Tongji University

3. Shanghai, P.R. China

4. Institut de Science des Matériaux de Mulhouse

5. UMR CNRS 7361

6. Université de Haute-Alsace

7. 68057 Mulhouse, France

8. Institut de Chimie et des Matériaux Paris-Est

9. UMR 7182

10. Université Paris-Est Créteil Val de Marne

11. 94320 Thiais, France

12. Laboratoire de Spectrométrie Physique

13. UMR CNRS 5588

14. Université Joseph Fourier

15. 38402 Saint Martin d'Hères, France

16. Laboratoire de Spectrochimie Infrarouge et Raman

17. UMR CNRS 8516

18. Université des Sciences et Technologies de Lille

19. 59655 Villeneuve d'Ascq Cedex, France

Abstract

Branching effects lead to a cooperative enhancement of the two-photon absorption (2PA) in the NIR and visible ranges.

Publisher

Royal Society of Chemistry (RSC)

Subject

Materials Chemistry,General Chemistry

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