Two-photon lithography in visible and NIR ranges using multibranched-based sensitizers for efficient acid generation

Author:

Jin Ming123,Xie Jianchao123,Malval Jean-Pierre4567,Spangenberg Arnaud4567,Soppera Olivier4567,Versace Davy-Louis891011,Leclerc Tiffanie4567,Pan Haiyan123,Wan Decheng123,Pu Hongting123,Baldeck Patrice12131415,Poizat Olivier16171819,Knopf Stephan4567

Affiliation:

1. School of Materials Science and Engineering

2. Tongji University

3. Shanghai, P.R. China

4. Institut de Science des Matériaux de Mulhouse

5. UMR CNRS 7361

6. Université de Haute-Alsace

7. 68057 Mulhouse, France

8. Institut de Chimie et des Matériaux Paris-Est

9. UMR 7182

10. Université Paris-Est Créteil Val de Marne

11. 94320 Thiais, France

12. Laboratoire de Spectrométrie Physique

13. UMR CNRS 5588

14. Université Joseph Fourier

15. 38402 Saint Martin d'Hères, France

16. Laboratoire de Spectrochimie Infrarouge et Raman

17. UMR CNRS 8516

18. Université des Sciences et Technologies de Lille

19. 59655 Villeneuve d'Ascq Cedex, France

Abstract

Branching effects lead to a cooperative enhancement of the two-photon absorption (2PA) in the NIR and visible ranges.

Publisher

Royal Society of Chemistry (RSC)

Subject

Materials Chemistry,General Chemistry

Cited by 34 articles. 订阅此论文施引文献 订阅此论文施引文献,注册后可以免费订阅5篇论文的施引文献,订阅后可以查看论文全部施引文献

同舟云学术

1.学者识别学者识别

2.学术分析学术分析

3.人才评估人才评估

"同舟云学术"是以全球学者为主线,采集、加工和组织学术论文而形成的新型学术文献查询和分析系统,可以对全球学者进行文献检索和人才价值评估。用户可以通过关注某些学科领域的顶尖人物而持续追踪该领域的学科进展和研究前沿。经过近期的数据扩容,当前同舟云学术共收录了国内外主流学术期刊6万余种,收集的期刊论文及会议论文总量共计约1.5亿篇,并以每天添加12000余篇中外论文的速度递增。我们也可以为用户提供个性化、定制化的学者数据。欢迎来电咨询!咨询电话:010-8811{复制后删除}0370

www.globalauthorid.com

TOP

Copyright © 2019-2024 北京同舟云网络信息技术有限公司
京公网安备11010802033243号  京ICP备18003416号-3