Application de la théorie dynamique de la diffraction X à l'étude de la diffusion du bore et du phosphore dans les cristaux de silicium
Author:
Publisher
International Union of Crystallography (IUCr)
Link
http://journals.iucr.org/a/issues/1968/01/00/a05853/a05853.pdf
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1. Measurement of grading in heteroepitaxial layers;Microscopy of Semiconducting Materials, 1983;2020-11-25
2. Method for the X-ray Diffraction Diagnostics of Crystal Imperfections;Journal of Surface Investigation: X-ray, Synchrotron and Neutron Techniques;2018-03
3. X-Ray and Electron Diffraction for Epitaxial Structures;Handbook of Crystal Growth;2015
4. Solution of the inverse problem of X-ray diffraction on periodic InGaN/GaN/Al2O3 nanostructures;Technical Physics Letters;2004-06
5. Determining parameters of a multilayer heterostructure by joint analysis of the X-ray rocking curves measured for various crystallographic planes;Technical Physics Letters;2004-05
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