1. 1) D. Edelstein, J. Heidenreich, R. Goldblatt, W. Cote, C. Uzoh, N. Lustig, P. Roper, T. McDevittt, W. Motsifft, A. Simon, J. Dukovic, R. Wachnik, H. Rathore, R. Schulz , L. Su, S. Lucet, J. Slatteryt. Edelstein, J. Heidenreich ; IEDM 1997 Technical Digest, 773 (1997).
2. 2) M. Motoyoshi ; Proceedings of the IEEE, 97, (1), 43 (2009).
3. 3) J. U. Knickerbocker, P. S. Andry, B. Dang, R. R. Horton, C. S. Patel, R. J. Polastre, K. Sakuma ; ECTC 2008, 538 (2008).
4. Formation, oxidation, electronic, and electrical properties of copper silicides
5. 6) K. -M. Chang, T. -H. Yeh, I-Chung Deng, C. -W. Shih ; J. Appl. Phys., 82, 1469 (1997).