Effects of the Main Conditions of Chemical Copper Plating on Its Local Anode Reaction and Cathode Reaction

Author:

SAITO Mamoru

Publisher

The Surface Finishing Society of Japan

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1. Electrochemical Fundamentals | Mixed Potential;Encyclopedia of Electrochemical Power Sources;2025

2. Electroless Assisted Nanostructured Morphologies;Simple Chemical Methods for Thin Film Deposition;2023

3. Recent advances in electroless nickel‑boron coatings;Surface and Coatings Technology;2022-01

4. Electroless Nickel Phosphorous:una visión global;Revista UIS Ingenierías;2019-06-14

5. Surface morphology of copper deposits by using azine derivatives on an ecofriendly electroless bath;Surface Engineering and Applied Electrochemistry;2015-11

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