Совершенствование технологии изготовления рельефных голографических решеток на бихромированном желатине, облученных коротковолновым УФ излучением

Abstract

Предложен новый вариант изготовления высокочастотных голографических решеток с пространственной частотой вплоть до 1500 mm-1 на слоях бихромированного желатина (БХЖ), из технологии обработки которого полностью исключены водные процедуры. Метод основан на применении ледяной уксусной кислоты после облучения слоев коротковолновым УФ излучением, в отличие от стандартной методики обработки зарегистрированных когерентным излучением He-Cd-лазера голографических структур. В ходе экспериментов получены рельефно-фазовые голографические решетки с дифракционной эффективностьюдо 41% при толщине слоя БХЖ 1.1 μm и до 64% при 5.6 μm. Ключевые слова: голографические дифракционные решетки, бихромированный желатин, коротковолновое УФ излучение, поверхностный рельеф, дифракционная эффективность, ледяная уксусная кислота, изопропанол.