Análisis de campos de esfuerzos utilizando fotoelasticidad visible e infrarroja
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Published:2017-06-28
Issue:1
Volume:11
Page:89-98
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ISSN:2248-4728
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Container-title:Visión electrónica
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language:
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Short-container-title:Vis. Electron.
Author:
Fandiño Toro Hermes A.,Briñez de León Juan C.,Restrepo Martínez Alejandro,Branch Bedoya John W.
Abstract
Análisis de campos de esfuerzos en imágenes de fotoelasticidad son llevados a cabo mediante descriptores de textura en este artículo. En este caso, los descriptores considerados permiten identificar zonas con altas concentraciones de esfuerzo, incluso en casos con pérdida de contraste, los cuales son por lo general atribuidos a la baja resolución espacial de las franjas. De manera adicional, en este trabajo se analiza la variación en la densidad de franjas en términos de la longitud de onda. Esto último se hace extendiendo la generación de imágenes de fotoelasticidad en el infrarrojo lejano.
Publisher
Universidad Distrital Francisco Jose de Caldas
Cited by
1 articles.
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