Nanoscale Study of the Hole-Selective Passivating Contacts with High Thermal Budget Using C-AFM Tomography

Author:

Hývl Matěj1ORCID,Nogay Gizem2ORCID,Loper Philipp2,Haug Franz-Josef2,Jeangros Quentin2ORCID,Fejfar Antonín1,Ballif Christophe23,Ledinský Martin1ORCID

Affiliation:

1. Institute of Physics, Academy of Sciences of the Czech Republic, Cukrovarnická 10, 162 00 Prague 6, Czech Republic

2. Ecole Polytechnique Fédérale de Lausanne (EPFL), Institute of Microengineering (IMT), Photovoltaics and Thin-Film Electronics Laboratory (PV-Lab), Rue de la Maladière 71b, 2000 Neuchâtel, Switzerland

3. PV-Center, Centre Suisse d’Électronique et de Microtechnique (CSEM), Rue Jaquet-Droz 1, CH-2002 Neuchâtel, Switzerland

Funder

Ministerstvo ?kolstv?, Ml?de?e a Telov?chovy

Publisher

American Chemical Society (ACS)

Subject

General Materials Science

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