Laser Flash Photolysis Study of Two Aromatic N-Oxyimidosulfonate Photoacid Generators

Author:

Ortica F.1,Scaiano J. C.1,Pohlers G.1,Cameron J. F.1,Zampini A.1

Affiliation:

1. Department of Chemistry, University of Ottawa, Ottawa, Canada K1N 6N5 and Shipley Company, Inc., R&D, Marlborough, Massachusetts 01752-3092

Publisher

American Chemical Society (ACS)

Subject

Materials Chemistry,General Chemical Engineering,General Chemistry

Reference30 articles.

1. Deep uv lithography

2. Performance limits in 1:1 UV projection lithography

3. Iwanayagi, T.; Ueno, T.; Nonogaki, S.; Ito, H.; Willson, C. G. IBM Res. Rep., 1987, No. RJ 5826.

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