Surface profile analysis by helium-3 activation; oxygen in silicon

Author:

Lamb James F.,Lee Diana M.,Markowitz Samuel S.

Publisher

American Chemical Society (ACS)

Subject

Analytical Chemistry

Cited by 18 articles. 订阅此论文施引文献 订阅此论文施引文献,注册后可以免费订阅5篇论文的施引文献,订阅后可以查看论文全部施引文献

1. Thermodynamics and phase stability in the Si–O system;Journal of Non-Crystalline Solids;2004-04

2. Analysis of oxygen by charged particle bombardment;Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms;1992-03

3. The radioanalytical bibliography of USA (1936–1977);Journal of Radioanalytical Chemistry;1981-03

4. Zum Nachweis von Sauerstoff in Mikrobereichen von versetzungsfreien Czochralski-Silizium-Einkristallen;Kristall und Technik;1977

5. Short communications;Talanta;1975-01

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