Metal-Organic Chemical Vapor Deposition of Ferroelectric SrBi2Ta2O9 Films from a Fluorine-Containing Precursor System

Author:

Condorelli G. G.1,Favazza M.1,Bedoya C.1,Baeri A.1,Anastasi G.1,Lo Nigro R.1,Menou N.1,Muller C.1,Lisoni J. G.1,Wouters D.1,Fragalà I. L.1

Affiliation:

1. Dipartimento di Scienze Chimiche, Università di Catania, Via Andrea Doria 6, 95125 Catania, Italy, IMM-CNR, Stradale Primosole 50, 95121 Catania, Italy, L2MP, Laboratoire Matériaux et Microélectronique de Provence, UMR CNRS 6137, Université du Sud Toulon Var, BP 20132, F-83957 La Garde Cedex, France, and IMEC, Interuniversity MicroElectronics Center, Kapeldreef 75, B-3001 Leuven, Belgium

Publisher

American Chemical Society (ACS)

Subject

Materials Chemistry,General Chemical Engineering,General Chemistry

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