Damage-Free Plasma Source for Atomic-Scale Processing-Reference-Cited by-同舟云学术

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Damage-Free Plasma Source for Atomic-Scale Processing

Published:2024-09-06 Issue: Volume: Page:
ISSN:1530-6984
Container-title:Nano Letters
language:en
Short-container-title:Nano Lett.

Author:

Park Junyoung¹,Jung Jiwon¹,Kim Min-Seok¹,Lim Chang-Min¹,Choi Jung-Eun¹,Kim Nayeon¹,Kim Ju-Ho¹,Chung Chin-Wook¹^ORCID

Affiliation:

1. Department of Electrical Engineering, Hanyang University, Seoul 04763, South Korea

Funder

Korea Semiconductor Research Consortium

National Research Foundation of Korea

Ministry of SMEs and Startups

Korea Evaluation Institute of Industrial Technology

Publisher

American Chemical Society (ACS)

Link

https://pubs.acs.org/doi/pdf/10.1021/acs.nanolett.4c02598

Reference89 articles.

1. Dry Etching Technology for Sub-Half-Micron Devises

2. Principles of Plasma Discharges and Materials Processing

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