A Time-Domain Perspective on the Structural and Electronic Response in Epitaxial Ferroelectric Thin Films on Silicon

Author:

Kwamen Christelle1,Rössle Matthias1,Leitenberger Wolfram2,Rojo Romeo Pedro3,Vilquin Bertrand3,Dubourdieu Catherine45,Bargheer Matias12ORCID

Affiliation:

1. Helmholtz-Zentrum Berlin für Materialien und Energie, Wilhelm-Conrad-Röntgen Campus, BESSY II, Albert-Einstein-Str. 15, 12489 Berlin, Germany

2. Institut für Physik and Astronomie, Universität Potsdam, Karl-Liebknecht-Str. 24-25, 14476 Potsdam, Germany

3. Université de Lyon, Institut des Nanotechnologies de Lyon (UMR5270/CNRS), Ecole Centrale de Lyon, 36 Avenue Guy de Collongue, 69134, Ecully Cedex, France

4. Helmholtz-Zentrum Berlin für Materialien und Energie, Institute Functional Oxides for Energy Efficient Information Technology (IFOX), Hahn-Meitner-Platz 1, 14109 Berlin, Germany

5. Freie Universität Berlin, Physical and Theoretical Chemistry, Arnimallee 22, 14195 Berlin, Germany

Funder

Agence Nationale de la Recherche

Bundesministerium f?r Bildung und Forschung

Deutsche Forschungsgemeinschaft

Publisher

American Chemical Society (ACS)

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