Identification of the Chemical Bonding Prompting Adhesion of a-C:H Thin Films on Ferrous Alloy Intermediated by a SiCx:H Buffer Layer-Reference-Cited by-同舟云学术

Identification of the Chemical Bonding Prompting Adhesion of a-C:H Thin Films on Ferrous Alloy Intermediated by a SiCx:H Buffer Layer

Author:

Cemin F.¹,Bim L. T.¹,Leidens L. M.¹,Morales M.²,Baumvol I. J. R.³,Alvarez F.²,Figueroa C. A.¹⁴

Affiliation:

1. Centro de Ciências Exatas e Tecnologia, Universidade de Caxias do Sul, 95070-560 Caxias do Sul, RS, Brazil

2. Instituto de Física “Gleb Wataghin”, Universidade Estadual de Campinas, 13083-970 Campinas, SP, Brazil

3. Instituto de Física, Universidade Federal do Rio Grande do Sul, 91509-970 Porto Alegre, RS, Brazil

4. Plasmar Tecnologia Ltda., 95030-775 Caxias do Sul, RS, Brazil

Funder

Petrobras

Fundação de Amparo à Pesquisa do Estado de São Paulo

Fundação de Amparo à Pesquisa do Estado do Rio Grande do Sul

Seventh Framework Programme

Conselho Nacional de Desenvolvimento Científico e Tecnológico

Coordenação de Aperfeiçoamento de Pessoal de Nível Superior

Publisher

American Chemical Society (ACS)

Subject

General Materials Science

Link

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