Dopamine−Melanin Film Deposition Depends on the Used Oxidant and Buffer Solution

Author:

Bernsmann Falk1,Ball Vincent12,Addiego Frédéric2,Ponche Arnaud3,Michel Marc2,Gracio José Joaquin de Almeida4,Toniazzo Valérie2,Ruch David2

Affiliation:

1. Institut National de la Santé et de la Recherche Médicale, Unité 977 11 rue Humann, 67085 Strasbourg Cedex, France

2. Department for Advanced Materials and Structures, Centre de Recherche Public Henri Tudor, 66 rue de Luxembourg, L-4002 Esch-sur-Alzette, Luxembourg

3. Institut de Science des Matériaux de Mulhouse, Université de Haute-Alsace, 68057 Mulhouse Cédex, France

4. Department of Mechanical Engineering, University of Aveiro, Campus Universitário de Santiago, 3810-193 Aveiro, Portugal

Publisher

American Chemical Society (ACS)

Subject

Electrochemistry,Spectroscopy,Surfaces and Interfaces,Condensed Matter Physics,General Materials Science

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