Author:
Гудков Сергей Игоревич,Солнышкин Александр Валентинович,Жуков Роман Николаевич,Киселев Дмитрий Александрович
Abstract
В работе проведены исследования пироэлектрической активности наноразмерных тонких поликристаллических пленок ниобата лития, изготовленных методом высокочастотного магнетронного распыления и методом лазерной абляции, а также тонких поликристаллических пленок танталата лития, изготовленных методом высокочастотного магнетронного распыления. С использованием динамического метода исследования пироэлектрического эффекта выяснено, что все образцы обладают самопроизвольной поляризацией, возникающей во время постростового термического отжига. Оценка пироэлектрического коэффициента показала, что значения пирокоэффициента тонких пленок ниобата лития и танталата лития в несколько раз меньше значений пирокоэффициента для объемных кристаллов соответствующих материалов. Это может быть связано с тем, что вектор поляризации части зерен лежит в плоскости пленки, а также с существующими в объеме пленки и на границе раздела пленка/подложка ловушками, на которых носители заряда рекомбинируют и не участвуют в генерации пироэлектрического тока.
In this work, we studied the pyroelectric activity of thin polycrystalline lithium niobate films fabricated by radio frequency magnetron sputtering and laser ablation, and thin polycrystalline lithium tantalate films fabricated by radio frequency magnetron sputtering. Using the dynamic method of studying the pyroelectric effect, it was found that all samples have self-polarization that occurs during the post-growth thermal annealing of the structure. An estimate of the pyroelectric coefficient showed that the values of the pyroelectric coefficient of lithium niobate and lithium tantalate thin films are several times lower than the values of the pyroelectric coefficient for bulk crystals of the corresponding materials. This may be due to the fact that the polarization vector of some grains lies in the film plane, as well as to the traps existing in the film volume and at the film/substrate interface, on which charge carriers recombine and do not participate in the generation of the pyroelectric current.