Análise microscópica da resistência do arroz à queima das bainhas mediada pelo silício

Abstract

A queima das bainhas, causada pelo fungo Rhizoctonia solani Kühn, é uma das mais importantes e destrutivas doenças que afetam a produção de arroz no mundo. Embora o silício (Si) seja capaz de reduzir a intensidade da queima das bainhas, os mecanismos de resistência mediados por esse elemento permanecem desconhecidos. Assim, este trabalho teve como objetivo investigar a nível microscópico o efeito do Si na resistência do arroz à infecção por R. solani. Plantas de arroz das cultivares BR-Irga-409 e Labelle foram cultivadas em solução nutritiva contendo 0 ou 2 mM de Si e inoculadas no estádio de máximo perfilhamento utilizando-se pedaços de palito de dente colonizados por R. solani. Ambos cultivares supridas com Si apresentaram intensa e homogênea deposição de Si nos tecidos das bainhas colonizados por R. solani. A maior concentração de Si nas bainhas de plantas de arroz de ambas cultivares contribuiu para reduzir os sintomas da queima das bainhas. Com o auxílio da microscopia de luz e da microscopia eletrônica de varredura, observou-se menor crescimento micelial do fungo sobre as bainhas foliares das plantas de ambas cultivares que foram supridas com Si. Secções das bainhas de plantas de ambos cultivares supridas com Si exibiram intensa autofluorescência nos tecidos próximos a regiões necrosadas devido a colonização por R. solani. Em conclusão, o suprimento de Si às plantas de arroz desempenhou um papel importante na redução dos sintomas da queima das bainhas.