Padrões silábicos no desenvolvimento fonológico típico e atípico: análise ultrassonográfica

Author:

Vassoler Aline Mara de Oliveira1,Berti Larissa Cristina1

Affiliation:

1. Universidade Estadual Paulista “Júlio de Mesquita Filho”, Brasil

Abstract

RESUMO Objetivo O presente estudo busca comparar, por meio da ultrassonografia de língua, a produção de padrões silábicos do tipo CCV e CV realizados por crianças brasileiras com desenvolvimento fonológico típico e atípico. Método Dez crianças (cinco com desenvolvimento fonológico típico e cinco atípico) gravaram nove pares de palavras das sílabas: CCV e CV. As imagens e os áudios foram capturados simultaneamente pelo programa Articulate Assistant Advanced. Os dados foram submetidos à análise oitiva e à análise articulatória ultrassonográfica (área entre a ponta e a lâmina da língua). As medidas de área foram submetidas à ANOVA de medidas repetidas. Resultados Para os valores de área, a ANOVA mostrou um efeito significativo para a condição clínica das crianças (típica e atípica) (F(1,8)=172,48, p>0,000). As crianças atípicas (CAs) apresentaram, em ambos os padrões silábicos (CCV e CV), valores superiores da área entre a ponta e a lâmina da língua. Com relação aos padrões silábicos analisados, o teste estatístico não mostrou nenhum efeito significante (F(1,8)=0,19, p>0,658). Conclusão O uso de maior área de língua por parte das crianças com desenvolvimento fonológico atípico sugere a não diferenciação dos gestos de ponta e do corpo anterior da língua na produção de CV e CCV.

Publisher

FapUNIFESP (SciELO)

Subject

Speech and Hearing,Otorhinolaryngology,Language and Linguistics

Reference22 articles.

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