Amorphes Silizium (a-Si)-Reference-Cited by-同舟云学术

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Amorphes Silizium (a-Si)

Published:1985 Issue:2 Volume:16 Page:50-62
ISSN:0031-9252
Container-title:Physik in unserer Zeit
language:de
Short-container-title:Phys. Unserer Zeit

Author:

Winterling Gerhard

Publisher

Wiley

Subject

General Earth and Planetary Sciences,General Environmental Science

Reference16 articles.

1. and , “Doped Amorphous Semiconductors”, in Topics in Appl. Phys., Vol. 36, Hrsg.: Springer Verlag, Berlin 1979.

2. “Amorphous Semiconductors”, Physics Today, S. 23 (Oktober 1976).

3. “Amorphous-Semiconductor Devices”, Scientific American, S. 36 (Mai 1977).

Cited by 12 articles. 订阅此论文施引文献订阅此论文施引文献，注册后可以免费订阅5篇论文的施引文献，订阅后可以查看论文全部施引文献

1. Halbleiter;Elektronische Bauelemente;1998

2. The formation of silicon carbide films from disilane derivatives;Advanced Materials;1994-07

3. Laserchemische Abscheidung von Festkörpern aus der Gasphase;Laser in Technik und Forschung;1993

4. Photoelektronen-Spektren und Moleküleigenschaften;Journal of Organometallic Chemistry;1992-05

5. CO2 Laser Chemical Vapor Deposition of Amorphous Silicon: Gas Phase Processes and Thin Film Properties;Berichte der Bunsengesellschaft für physikalische Chemie;1991-11

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