Low-temperature annealing of surface states at the SiSiO2 interface
Author:
Publisher
Wiley
Subject
Condensed Matter Physics,Electronic, Optical and Magnetic Materials,Condensed Matter Physics,Electronic, Optical and Magnetic Materials
Reference9 articles.
1. Low-Temperature Reduction of Fast Surface States Associated with Thermally Oxidized Silicon
2. High-Temperature Annealing of Oxidized Silicon Surfaces
3. The Role of Hydrogen in SiO2 Films on Silicon
4. Using the Quasistatic Method for MOS Measurements
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