Zum Substituenteneinfluß auf die UV-Empfindlichkeit der Naphthochinondiazid-Photolacke
Author:
Publisher
Wiley
Subject
General Chemistry
Reference7 articles.
1. Lu , E. D. Toole , M. M. O. Chang , M. S. Solid State Technol. 1982 66
2. Photochemical Decomposition Mechanisms for AZ-Type Photoresists
3. Untersuchung der sensibilisierten Photolyse von 2-Diazo-1-oxo-1,2-dihydronaphthalenen in fester Schicht
Cited by 2 articles. 订阅此论文施引文献 订阅此论文施引文献，注册后可以免费订阅5篇论文的施引文献，订阅后可以查看论文全部施引文献
1. Zur Empfindlichkeit des UV-Photorasistes AZ 2400 bei Einsatz von Lasern;Zeitschrift für Chemie;2010-08-31
2. Strukturaufklärung von ausgewählten nitro- und sulfonsäuresubstituierten 1,2-Naphthochinon-2-diaziden;Journal für Praktische Chemie;1985
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