Affiliation:
1. Institut für Chemie Technische Universität Berlin Straße des 17. Juni 115 10623 Berlin Deutschland
Abstract
AbstractEs wird eine regioselektive silyliumionvermittelte Thiosilylierung von internen C−C‐Dreifachbindungen mit Kontrolle der Doppelbindungsgeometrie beschrieben. Im Zuge dieser Zweikomponentenreaktion eines Alkins und eines Thiosilans werden sowohl eine C(sp2)−S‐ als auch eine C(sp2)−Si‐Bindung mit einer trans‐Beziehung gebildet. Die hierdurch entstandene orthogonal funktionalisierte C−C‐Doppelbindung lässt sich chemoselektiv defunktionalisieren oder unter Erhalt der Alkenkonfiguration in Kreuzkupplungsreaktionen weiter umsetzen. Die Reaktionsvorschrift ist ebenfalls auf die regio‐ und diastereoselektive Thiosilylierung von terminalen Allenen anwendbar, was zu allylischen Thioethern, die eine Vinylsilaneinheit enthalten, führt. Diese Reaktionen beinhalten die elektrophile Aktivierung des S−Si‐Reagenzes, ein silyliertes Thiophenol und sogar Alkylthiolderivat, durch eine in situ erzeugte Carbokationzwischenstufe. Der Katalysecyclus wird durch ein bissilyliertes Aryl‐ oder Alkylsulfoniumion als ein Shuttle für das kationische Siliciumelektrophil aufrechterhalten. Dessen unabhängige Darstellung und strukturelle Charakterisierung durch Röntgenbeugung werden ebenfalls berichtet.
Funder
China Scholarship Council
Einstein Stiftung Berlin