Scaling and Confinement in Ultrathin Chalcogenide Films as Exemplified by GeTe

Author:

Kerres Peter1,Zhou Yiming1,Vaishnav Hetal12,Raghuwanshi Mohit12,Wang Jiangjing13,Häser Maria1,Pohlmann Marc1,Cheng Yudong13,Schön Carl‐Friedrich1,Jansen Thomas4,Bellin Christophe5,Bürgler Daniel E.4,Jalil Abdur Rehman6,Ringkamp Christoph6,Kowalczyk Hugo5,Schneider Claus M.47,Shukla Abhay5,Wuttig Matthias27ORCID

Affiliation:

1. I. Institute of Physics (IA) RWTH Aachen University 52056 Aachen Germany

2. Peter Grünberg Institute—JARA‐Institute Energy‐Efficient Information Technology (PGI‐10) Forschungszentrum Jülich GmbH 52428 Jülich Germany

3. Center for Alloy Innovation and Design Key Laboratory for Mechanical Behavior of Materials Xi'an Jiaotong University Xi'an 710049 China

4. Peter Grünberg Institute—Electronic Properties (PGI‐6) Forschungszentrum Jülich GmbH 52428 Jülich Germany

5. Institut de Minéralogie de Physique des Matériaux et de Cosmochimie Sorbonne Université UMR CNRS 7590 MNHN Paris F‐75005 France

6. Peter Grünberg Institute—Semiconductor Nanoelectronics (PGI‐6) Forschungszentrum Jülich GmbH 52428 Jülich Germany

7. JARA‐FIT RWTH Aachen University 52056 Aachen Germany

Funder

Deutsche Forschungsgemeinschaft

RWTH Aachen University

Forschungszentrum Jülich

Publisher

Wiley

Subject

Biomaterials,Biotechnology,General Materials Science,General Chemistry

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