1. : Measurement of local diffusion coefficients in planar device structures. In: Semi conductor Silicon. Ed. ; ; : Pennington, NJ/USA; Electrochemical Society 1981, S. 988.
2. The effect of oxidation on the diffusion of phosphorus in silicon
3. : Beitrag zur Phosphordiffusion im Silizium. Dissertation A, TH Karl-Marx-Stadt 1981.
4. : Dotandendiffusion im Silizium bei inhomogener Vakanzenverteilung. 3. Tagung Elektronik-Technologie der Humboldt-Universität zu Berlin 1985, Berichte 1/85, 26.
5. : The Mathematics of Diffusion. Oxford: Clarendon Press 1956.