9‐3: Performance of New Gen. 6 Exposure Tools for 1.2 μm Resolution

Author:

Yabu Nobuhiko1,Hakko Manabu1,Okubo Toru1,Oyanagi, Takeo1,Ando Miwako1,Terashi Takaaki1,Izumi Nozomu1,Osaki Yoshinori1

Affiliation:

1. Canon Inc. Tochigi Japan

Publisher

Wiley

Reference8 articles.

1. Complete analysis of a two-mirror unit magnification system. Part 1;Suzuki A;Applied Optics,1983

2. Catadioptric projection optical system for flat panel exposure tool;Kohno M;Proc. SPIE 6342, International Optical Design Conference 2006,2006

3. High-resolution technology for FPD manufacturing;Yabu N;J Soc Inf Display,2015

4. Development of G6 exposure tool for 1.2 μm resolution;Nagano K;J Soc Inf Display,2019

5. New Gen. 6 Exposure Tools for 1.2 μm Resolution;Yabu N;SID 2020 DIGEST,2020

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