Reflexionsspektroskopische Untersuchungen über die Chemisorption von phenylsubstituierten Methylchloriden an Oxidoberflächen

Abstract

AbstractDie Adsorption von Triphenylchlormethan und anderen phenylsubstituierten Methylchloriden an verschiedenen Oxidoberflächen wurde reflexionsspektroskopisch untersucht. Die Adsorption der phenylsubstituierten Methylchloride an der sauren Oberfläche eines SiO2‐Al2O3‐Crack‐Katalysators ergab die Bildung von Benzyl‐, Diphenylmethyl‐ und Triphenylmethylkationen. Bei der Adsorption von Benzylchlorid an diesem Crack‐Katalysator wurden außerdem noch ein Protonadditions‐komplex und ein Radikalion gefunden.Die Adsorption von Triphenylchlormethan an basischen Oberflächen (z. B. MgO) führt ebenfalls zum Triphenylmethylkation, das jedoch an der Oberfläche weiterreagiert. Die entstehenden Reaktionsprodukte konnten teilweise identifiziert werden. Für die Reaktionen wurde ein Modell entwickelt, bei dem die basischen Eigenschaften der Oberfläche von MgO eine entscheidende Rolle spielen. Als Beweis für die hohe Aktivität der basischen Zentren der MgO‐Oberfläche kann die Bildung des Triphenyl‐methylanions angeführt werden, das bei der Adsorption von Triphenylmethan an MgO entsteht. Weiterhin wurde die Adsorption von 4‐Hydroxy‐triphenylmethyl‐Verbindungen an MgO untersucht. Wir fanden Phenolatanionen, deren Bildung ebenfalls durch die Basizität der MgO‐Oberfläche erklärt werden konnte. Dagegen wird bei der Adsorption von 4‐Hydroxytriphenylcarbinol am Crack‐Katalysator das 4‐Hydroxytriphenylmethylkation gebildet.